(ALD)原子层沉积设备制造理想之选-西特Model730真空计|上海凡时测控技术有限公司

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(ALD)原子层沉积设备制造理想之选-西特Model730真空计

  (ALD)原子层沉积设备制造理想之选-西特Model730真空计。ALD--Atomic Layer Deposition 原子层沉积,是在基底材料表面制备原子级别的沉积层. 而ALD关键技术需要**控制工艺的环境参数,其反应器压力需要严格保持在合适的真空条件下,此时通过对反应物的时序脉冲喷射,才能达到准确沉积的效果。借助于Setra(西特)在电容式压力测量领域逾50年的经验积累, 730型真空电容式压力计无论从产品设计、制造工艺、品质管理,还是从成本控制等诸多方面,都是ALD设备制造商的理想之选。

    Setra(西特)730型真空电容式压力计是一款高精度的电容式压力计(亦称电容式膜片真空计 (CDG)),(ALD)原子层沉积设备制造理想之选-西特Model730真空计-适合在光伏、半导体和工业市场中测量对过程控制至关重要的低真空范围。该产品读数精度达±0.5%,分辨率高,优于同类产品。730 型使用全InconelTM 接液材料,可承受半导体加工过程中的腐蚀性介质。由于采用直接测量设计,它能**测量介质,不受应用中气体混合物成分的影响。

   (ALD)原子层沉积设备制造理想之选-(ALD)原子层沉积设备制造理想之选-西特Model730真空计特点:适合苛刻应用的高性能产品采用单膜片可变电容感应元件,适用于苛刻的半导体和工业真空应用。它具有读数精度和分辨率高、动态范围宽的特点,使之成为关键制造过程中的理想选择。Inconel® 设计保证通用性 确保730型在这类应用中的长使用寿命。直接压力测量内置膜片可在使用点直接测量压力变化。与其他工业电容式压力计不同,(ALD)原子层沉积设备制造理想之选-西特Model730真空计, 不受被测混合气的影响,这使其精度优于间接测量型压力计。

  ALD科普((ALD)原子层沉积设备制造理想之选-西特Model730真空计):ALD—Atomic Layer Deposition原子层沉积,是在基底材料表面制备原子级别的沉积层,这种沉积技术可广泛服务于各类半导体、光学、光电和电池材料的研究,且已经在相当多的IC器件、MEMS、传感器等生产工艺中发挥了巨大的效用。相较于CVD(化学气相沉积)技术,ALD提供了更为**的沉积层—自饱和的表面产物,厚度可控制在只有一层原子。如果说CVD是在地面摊了一层水泥砂浆,ALD则是把水泥、砂分别均匀上乘的涂敷在了材料上,没有任何瑕疵。这种更为精准的层沉积技术为材料带来的性能提升是不言而喻的。比如借助这种技术处理过的光电材料可使*终的光电转换效率提升超过10%。用于FPD等光学显像玻璃时,可使成品亮度、对比度等关键性能大幅度提升。

  (ALD)原子层沉积设备制造理想之选-西特Model730真空计属于西特压力传感器(Setra真空计)。



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